Räni vahvlite klassifikatsioon

1. monokristalliline räni
Monokristalliline räni, tuntud ka kui CZ monokristalliline räni, on kõrge - puhtus ränimaterjal, mida tavaliselt kasutatakse pooljuhtide seadmete valmistamiseks. Monokristallilise räni tootmisprotsess on suhteliselt keeruline ja seda tuleb valmistada Czochralski meetodil või ujuv tsooni meetodil. Selle räni vahvli kristallstruktuur on väga korrapärane, mis tagab seadme stabiilse jõudluse. Suurepärase juhtivuse ja heade elektrostaatiliste omaduste tõttu kasutatakse seda laialdaselt elektroonikatööstuses, näiteks valmistamise kiipide, fotogalvaanilised rakud ja päikesepatareisid.
2. polükristalliline räni
Polükristalliline räni on madal - puhtus, lõdvalt kristalliseerunud ränimaterjal, mida kasutatakse peamiselt päikeseelemendi tööstuses. Selle räni vahvli tootmisprotsess on suhteliselt lihtne ja seda saab valmistada otsese tõmbamismeetodi või lehe kristallimise meetodil. Polükristalset räni iseloomustab odavad ja kõrge tootmisfektiivsuse, seega kasutatakse seda laialdaselt päikeserakkude valdkonnas.
3. Czochralski räni
Czochralski Silicon, tuntud ka kui CZ Silicon, on kõrge - puhtusmonokristalliline ränimaterjal, mis on valmistatud Czochralski meetodil. Selle tootmisprotsess on suhteliselt keeruline ja nõuab kõrget temperatuuri ja kõrgsurvekeskkonda, mis võib tekitada väga kõrgeid - kvaliteetseid räni kristalle. CZ Siliconil on täieliku kristallstruktuuri ja stabiilsete elektriliste omaduste omadused ning seda kasutatakse laialdaselt elektroonikas, fotogalvaanilises ja muudes põldudes.